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布图设计专有权与专利权、版权的比较
添加时间:2013-5-10 5:44:24     浏览次数:1576

作者:方诗龙

来源:http://www.netlawcn.net/second/content.asp?no=47

摘要

在我国知识产权领域,已诞生一项新权利——布图设计专有权,本文从权利的客体、内容、授权的条件等方面将布图设计专有权与专利权、版权进行了比较,并指出布图设计专有权处于工业产权和版权的交接处,属于工业版权范畴。

关键词:布图设计专有权  专利权   版权  比较

2001年10月1日起,我国的《集成电路布图设计保护条例》(下称《条例》)开始施行,从此知识产权领域就诞生一项新权利——布图设计专有权。实际上,早在1984年,美国就有了“半导体芯片保护法”, TRIPS协议中也有保护集成电路布图设计的规定。但布图设计专有权在中国毕竟还是一项新事物,实践中许多人对布图设计专有权与专利权、版权的区别还不是很清楚,本文想就此作一番比较探讨。

一、权利的客体不同

    布图设计之所以被专门立法保护,就在于其保护客体——布图设计的特殊性。

所谓布图设计,不论如何表述,意指多个元件,其中至少有一个为有源元件,和其部分或全部集成电路互连的三维配置,或者为生产集成电路而准备的此种三维配置。

布图设计作为一种三维配置,与著作权法上的设计作品相似。与普通设计图不同的是,布图设计直接体现了集成电路的物理结构,并且具有功能性。所以,集成电路的设计图可以受版权法保护,但布图设计本身版权法就难以管辖得到,因为不延及到实用物品是版权法一贯的原则。

由于布图设计本身作为集成电路的物理结构的一部分,实质上就是将这些元件在集成电路中排列组合的一种方法,也就是制作集成电路物理结构的方法。不同的布图设计代表着不同的排列组合方法,也产生不同的功能。因此 ,在此意义上布图设计又与技术方案极为相似。但是,利用布图设计生产集成电路产品,并不需要一个对技术方案实施过程,只要将布图设计通过各种手段做到半导体材料中就可以了,实质上是一个“复制”过程。况且,布图设计很难达到发明专利的“三性”要求是的 ,而且在现有的技术水平下 ,对布图设计的“三性”也很难审查认定。至于外观设计,保护的是有美感的工业品外形,对产品的功能一般并不保护。集成电路的布图设计很难说具有美感,至少一般消费者难以用肉眼享受到。迄今,只有南非的立法将布图设计纳入功能性外观设计的保护范围[①]。因此,专利法也难以保护布图设计。

    由此可见,夹在设计图与产品之间的布图设计,成了版权法管不了、专利法又管不到的对象[②]。正是在这样一种情况下,世界各国才将布图设计予以专门立法保护。

二、授权的条件不同

    版权是自动产生的,只要作品具有原创性,就自作品产生之日起自动受版权法保护。授予专利权的条件是所申请的产品或方法同时具有新颖性、创造性、实用性。

    授予布图设计专有权的条件,是其独有的原创性。这种原创性,既包括了一般版权法意义上的原创性含义,即作者要依赖其本身的技能、劳力和智力创造出布图设计来,也包含了组合的原创性,即虽由各种已有元件和线路互连组合而成,但作为一个整体应是一件非常规的原创产品。原创性的要求远远低于专利法所要求的创造性,创造性要求即需要申请专利的产品或方法具有突出的实质性特点和显著的进步。另外,布图设计专有权也不要求新颖性,自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内均可要求登记布图设计。

三、权利产生的方式不同

我国《条例》规定布图设计专有权须登记产生,不登记不产生权利。版权的产生是自动的,无须履行任何行政手续。专利权的产生须向国家主管部门提出申请,经审查批准后产生。

布图设计获准登记后,发现该登记不符合《条例》规定的,由知识产权局专利委员会予以撤销。专利被授予后,任何人均可以向专利委员会宣告专利无效,我国新修订的专利法已取消了撤销程序。

四、权利的内容不同

    专利权的内容体现为权利人独占的实施权,即未经专利人许可,任何单位或个人不得为生产目的制造、使用、许诺销售、销售、进口其专利产品,或者使用其专利方法以及使用、许诺销售、销售、进口依照该专利方法直接获得的产品。

    版权的权利人享有的权利分为人身权利和财产权利两大部分,具体说来包括发表权、署名权、修改权、保护作品完整权,复制权、发行权、出租权、展览权、表演权、放映权、广播权、信息网络传播权、摄制权、改编权、翻译权等及获得报酬的权利。

    布图设计专有权人依照《条例》规定享有两项专利权:复制权和商业利用权。这里的复制不是copy,而是reproduce,是指重复制作受保护的布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为。商业利用是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品。这其中涉及三个层次:布图设计(第一层次)、含布图设计的集成电路(第二层次)、含该集成电路的物品(第三层次),三个层次均在受保护之列。但是,依据定义,行为方式仅限于进口、销售或其他方式提供的行为。这其中,何谓“其他方式”法律未作出明确定义。与专利权中的“制造、使用、许诺销售、销售、进口”行为相比,制造行为对布图设计而言可以宽泛地归结到复制行为,将“许诺销售”解释为“其他方式”也勉强能行得通,但从字面上理解,“使用”方式并不是一种“提供”方式,因此,“使用”方式并不能被“复制”和“商业利用”两个字所涵盖。换句话说。任何人均可以不经许可自由使用含有受保护布图设计的集成电路及含有这种集成电路的产品。经这样一推理,可以看出布图设计专有权与专利权的内容还是有明显差别的。

五、权利的限制不同

    对著作权的权利人的限制主要是一些合理使用和法定许可的规定。合理使用包括个人欣赏、课堂教学、新闻报道、执行公务等一些非商业利用,可以不经著作权人的许可,不向其支付报酬,但应当指明作者姓名、作品名称,并不得侵犯著作权依法享有的其他权利。法定许可是法律规定可以不经著作权人许可但应当按照规定支付报酬,除非著作权人特别声明不许使用的例外。例如录音制作者使用他人已经合法录制为录音制品的音乐作品制作录音制品,除著作权人特别声明不许使用外,就可以不经著作权人许可,但应向著作权人支付报酬。法定许可只限于在法律有明确规定的情况下才可以,值得注意的是新修订的我国著作权法法定许可的范围大大缩小了。

    对专利权人的限制有科学研究、权利用尽、强制许可、临时过境、先用权等方面。

    对布图设计专有权的限制主要有反向工程、他人独立创作、权利用尽、非商业目的的利用、非自愿许可、善意侵权等方面。

    他人独立创作明显带有版权法的色彩,因为版权保护的是思想的表达方式,而非思想本身。这一点与专利法不同,专利法要求仅在“原有范围内继续制造、使用”才不视为侵犯专利权。

    善意侵权的规定,一般常见于专利法。我国《专利法》规定,善意“侵权人”能证明合法来源的,不承担赔偿责任,并不是“不视为侵权”。这一点在《条例》中有不同的规定,《条例》仍将善意侵权不视为侵权,并且在支付合理报酬后,仍可以将现有存货或此前的订货投入商业利用。

    非商业目的利用、非自愿许可、权利用尽的限制不同程度地适用于版权、专利权,在此不作详述,下面着重谈谈布图设计特有的反向工程例外。

    反向工程(reverse engineering),又叫“还原工程”,是指用科学方法在彻底地剖析了解该集成电路功能的基础上,将集成电路熔化分解 ,然后通过照相或其他方式 ,将其中的布图设计记录下来 ,再通过计算机处理 ,便可将布图设计“高保真”地复制下来 ,然后投入批量生产 ,制作出与原集成电路功能相的芯片。但是。还原工程并不是直接进行复制,并不过分背离公平竞争的原则,是集成电路产业中一项可以接受的行为。我国《条例》与其他国家的法律和国际条约一样,对反向工程也给予承认和保护,条件是反向工程所得的集成电路同样具有独创性。

六、权利的期限不同

按照我国《专利法》,发明专利权的期限为20年,实用新型和外观设计专利权为10年,自申请人向我国提出申请之日起计算。

按照《著作权法》,版权中人身权利无期限限制,版权中财产权利的保护期一般为作者终身及其死亡后50年,另有规定的除外。

按照《条例》,布图设计专有权的期限为10年,自布图设计登记申请日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算。

七、权利的救济方式不同

知识产权的保护坚持行政与司法双轨制,这是我国知识产权保护的一大特色。布图设计专有权与专利权、版权一样,也保留了这种特色,这是三者的共性之处。

但在具体的保护制度方面,三者又存在许多细微差别。

在行政保护方面,版权的行政保护由国家版权局、省级和地市级政府设立的版权机构来管理,行政权限包括民事赔偿调解、责令停止侵权行为,没收违法所得,没收、销毁侵权复制品,并可处以罚款;情节严重的,著作权行政管理部门还可以没收主要用于制作侵权复制品的材料、工具、设备等。专利权的行政管理部门为省级政府和设区的市级政府设立的管理专利工作的部门,不包括国家知识产权局,县级政府也不设立专利管理机构,行政权限仅限于责令停止侵权、民事赔偿调解。依据《条例》第31条,集成电路布图设计专有权的行政处理部门仅为国家知识产权局,省级及省级以下的知识产权行政部门均无权受理,行政权限包括民事赔偿调解、责令侵权人立即停止侵权行为,没收、销毁侵权产品或者物品。

在司法救济方面,版权纠纷各级人民法院均有管辖权,专利权纠纷的初审管辖权为省级城市和最高人民法院指定城市的中高级人民法院,布图设计案件侵权纠纷的初审管辖权目前由各省、自治区、直辖市人民政府所在地,经济特区所在地和大连、青岛、温州、佛山、烟台市的中级人民法院作为第一审人民法院审理[③]。

在法律责任上,侵犯专利权、著作权,不仅会承担民事责任、行政责任,甚至有可能承担刑事责任,而侵犯布图设计专有权目前尚无刑事责任的规定。

另外,依据《知识产权海关保护条例》,专利权、著作权人可以就专利权、著作权向海关总署申请备案,对涉嫌侵犯专利权、著作权的进出口货物可以申请海关予以扣留。但布图设计专有权并不在《知识产权海关保护条例》保护之列。这显然是《知识产权海关保护条例》制订时未考虑到布图设计专有权,应当予以修订。

八、总结

以上对布图设计专有权与专利权、版权进行了初步比较,着重谈了三者的区别,但布图设计权专有权也具有传统知识产权的一般特征 ,如专有性、时间性和地域性等特征。传统的知识产权可以简单地分为两大类 :工业产权和版权 (著作权 )。不难发现,布图设计专有权既具有工业产权的一些特征 ,也具有版权的一些特征 ,处于工业产权和版权的交接处,属于第三类知识产权 :工业版权[④]。

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[①] 中专利局条法部编,《集成电路和植物品种知识产权保护专辑》, 专利文献出版社,1996年4月第1版,P19。

[②] 郑成思著,《WTO知识产权协议逐条讲解》, 中国方正出版社, 2001年1月第1版, P124。

[③]最高人民法院2001年10月30日通过的关于开展涉及集成电路布图设计案件审判工作的通知。

[④] 郑成思著,《WTO知识产权协议逐条讲解》, 中国方正出版社, 2001年1月第1版, P123。

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