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当前位置:首页 > 其他知识产权 > 集成电路布图设计权> 理论前沿 > 正文   
集成电路布图设计专有权侵权认定若干问题之探讨
添加时间:2013-5-9 20:24:54     浏览次数:1545

作者:徐棣枫 (江苏亿诚律师事务所)  孟睿(江苏国泰新华律师事务所)

来源:http://www.netlawcn.net/second/content.asp?no=1867

摘要:集成电路产业是我国战略性新兴产业,近十年来在我国有了长足发展。但与产业的发展相比,集成电路布图设计的法律保护显得相对落后。一方面,相关立法原则性强,对司法实践的指导缺乏操作性;另一方面,由于司法实践案例数量少,无法积累足够的实践经验。因此,布图设计侵权认认定中,还存在许多问题需要进一步研究探索。本文总结了几个司法实践中已经出现或今后可能出现的问题,进行初步的分析并提出自己的一些解决方法。

关键词:集成电路布图设计  侵权认定   司法实践   问题

一、问题的引出:轰轰烈烈的集成电路产业与沉寂的布图设计司法保护实践

集成电路产业是国家战略性新兴产业,是国民经济和社会信息化的重要基础。我国政府一直把大力发展集成电路技术和产业放在极其重要的位置,2000年国务院出台《关于印发鼓励软件产业和集成电路产业发展若干政策的通知》,在国家一系列政策措施的扶持下,经过各方面共同努力,我国集成电路产业获得较快发展。2011年国务院制定实施《进一步鼓励软件产业和集成电路产业发展的若干政策》,继续完善激励措施,明确政策导向,对于优化产业发展环境,增强科技创新能力,提高产业发展质量和水平,具有重要意义。我国集成电路产业的总销售额,从2000年的186.2亿元到2010年超过1300亿元,在十年的时间里翻了七番。  与之相呼应集成电路布图设计保护近年也逐步受到关注,2001年国务院颁布了《集成电路布图设计保护条例》(以下简称《条例》),国家知识产权局为配合《条例》的实施,同时颁布《集成电路保护条例实施细则》(以下简称《实施细则》),最高人民法院为配合《条例》的实施,于2001年出台发布了《关于开展涉及集成电路布图设计案件审判工作的通知》(以下简称《通知》)。然而,与轰轰烈烈的集成电路发展事业相比,在布图设计登记量逐年上升的同时,却少见集成电路布图设计侵权纠纷诉至法院,在整个司法活动中,与其他类型的知识产权案件相比,集成电路布图设计案件显得“微不足道”。据统计,见诸报道的集成电路布图设计侵权纠纷案件不过5件。(详见图1)

难道与其他类型的知识产权相比,集成电路布图设计权充分得到了尊重,少有侵权行为发生?集成电路布图设计司法实践之沉寂背后的原因是众多而复杂的,一方面,集成电路产业技术发展迅速、技术更新换代快,对知识产权保护的依赖度并不高,市场主体更多选择以技术竞争替代知识产权保护,因此,西方甚至有研究者将集成电路布图设计保护的立法称为“屠龙法案”;另一方面,集成电路产业界通过寻求专利对集成电路技术中具备可专利性的创新成果获得更强的保护,或者通过保密、加密等方式进行自我保护;此外,还有另一个不可忽视的原因——集成电路布图设计保护侵权认定的困难。由于《条例》关于布图设计侵权的规定比较概括和笼统,而《通知》仅就有关集成电路保护的相关程序问题进行了规定,各级法院审理的布图设计侵权案件屈指可数,而真正依据《条例》对布图设计侵权做认定的案件,到目前为止只有一例——南京市中院人民法院审理的华润矽威科技(上海)诉南京源之峰科技有限公司侵犯集成电路布图设计专有权纠纷案。 然而,美中不足的是,该案主要还是根据被告的自认进行认定的,虽然该案对今后审理集成电路布图设计侵权案件有重要的指导意义,并被最高人民法院列入2010年十大知识产权案件,但如何认定集成电路布图设计侵权行为仍有许多问题有待进一步探讨和研究。鉴于目前立法的原则性和司法实践经验的匮乏,本文将归纳司法实践中已经遇的相关问题,加以思考分析,尝试探索可能的解决方案,求教于各位同行。

二、司法实践中的问题与初步探讨

1、布图设计专有权的范围及依据:复制件、图样、样品记载的布图设计不一致时,如何来确定专有权的效力?不同形式载体的效力?能否选择某一载体为准?

《条例》第2条规定,“布图设计”,是指“集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上的元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置”。 布图设计专有权保护的对象就是这一“三维配置”。 在南京市中院人民法院处理的案件中,法官也认为“布图设计专有权的保护范围应当以布图设计授权文件所确定的三维配置为准”。  目前,从立法和司法实践来看,布图设计的保护范围就是“三维配置”应该没有什么争论。问题是,如何来确定这个“三维配置”?

“三维配置”实际以一种信息状态存在于世,不像其他有体物占据一定空间,只有当它附着在一定的载体上才可为人所感知。布图设计在集成电路芯片中表现为一定的图形。同样,在掩模版上,布图设计也是以图形方式存在的。计算机辅助设计技术的发展,使布图设计可以数字化代码的方式存储在磁盘或磁带中。在计算机控制的离子注入机或者电子束曝光装置中,布图设计也是以一系列的代码方式存在。人们可通过一定的设备感知这些数字化代码信息。在不同的载体上,布图设计可以不同的信息状态存在。 因此,确定布图设计保护范围的过程,实际上就是观察者根据载体记载的信息来确定“三维配置”的过程。那么,在司法实践中,哪些载体可以作为确定“三位配置”的依据?

集成电路布图设计专有权依登记而产生,美国半导体芯片法、日本集成电路芯片法、WIPO关于集成电路的知识产权条约、欧共体指示都规定 只要在世界任何地区进行商业利用就可享有法律保护,但必须在首次商业利用之日起两年内按规定要求进行登记注册。我国《条例》的规定与此相同,《条例》第8条规定布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生,未经登记的布图设计不受本条例保护。第17条规定布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内,未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的,国务院知识产权行政部门不再予以登记。也就是说,未按照规定进行登记的,权利人对集成电路布图设计不享有专有权。

申请人在集成电路布图设计登记部门办理登记手续时必须提交申请书、有关记载集成电路布图设计的文件和实物、有关申请者是创作人的证明材料等。《条例》第16条规定申请布图设计登记,应当提交:(1)布图设计登记申请表;(2)布图设计的复制件或者图样;(3)布图设计已投入商业利用的,提交含有该布图设计的集成电路样品;(4)国务院知识产权行政部门规定的其他材料。

根据上述权利取得的登记程序,申请人申请登记时提交的布图设计的复制件或者图样、含有该布图设计的集成电路样品,这些都是依法登记的布图设计载体,复制件、图样、样品中展示或含有的布图设计,即含有的“三位配置”是权利人获得授权的布图设计,对其享有专有权。权利人主张权利时,应该依据登记备案的载体来确定其授权的布图设计,即根据登记备案的载体来确定“三维配置”。

布图设计与其他知识产权的登记制度不同,根据登记制度的规定,申请人在进行登记时提交了三种形式的载体,即复制件或图样的纸质载体、电子载体以及集成电路样品的实物载体。这三种形式的载体,因为均经过登记备案,因此他们的法律效力应该是相同的,均可以用来确定权利范围,并与侵权布图设计进行对比。从目前的司法实践来看,法院也认为这三种载体的效力是相同的,在深圳中院和南京中院受理的案件中,法院均向国家知识产权局调取了上述三种形式的载体,用以确定原告享有专有权的布图设计。而且,南京中院在该案判决中,法院进一步确认,权利人所提交的布图设计的复制件或者图样,或者提交的集成电路样品均可用于确定这种三维配置。复制件或者图样附具的文字说明,可以用来解释布图设计。

需要注意到的是,如果这三种载体记载的布图设计不相同,或者由于载体形式不同导致表现出来的布图设计有差异,权利是否有效?权利人应该以哪一个载体记载的布图设计为准来确定布图设计的范围呢?

《实施细则》规定,提交的复制件、图样、样品不一致的,登记申请不予受理。在申请过程中,审查部门发现申请人提交的复制件、图样、样品在记载的布图设计不一致时,可以依照《实施细则》的规定不予受理。鉴于布图设计登记的审查形式和技术要求,审查人员无法就申请人提交的各种载体记载的布图设计是否一致进行全面的实质性审查。尤其在申请人同时提交了样品的情况下,审查人员更不会对样品记载的布图设计与纸质或电子形式的布图设计图样或复制件进行一致性审查。

因此,在侵权案件审理中如发现登记时提交的复制件、图样、样品记载的布图设计不一致时,如何来确定专有权的效力?即能否依据《实施细则》以复制件、图样、样品不一致为由,否定该集成电路布图设计专有权呢?根据《实施细则》第29条关于撤销程序的规定,布图设计登记公告后,发现登记的布图设计专有权不符合集成电路布图设计保护条例第2条第1、2项、第3条、第4条、第5条、第12条或者第17条规定的,由专利复审委员会撤销该布图设计专有权。可见目前《实施细则》已将复制件、图样、样品记载的布图设计不一致列入撤销的理由,可以直接以复制件、图样、样品记载的布图设计不一致为由请求撤销专有权。而且,《实施细则》第17条第1项中的复制件、图样和样品不一致属于不予受理的情形,《实施细则》第18条进一步规定,这种情形不可补正。因此,可以认为,申请人无法通过提交具备一致性的替换载体来满足授权要求。这样笔者得出一个初步的结论是,不同形式的载体之间不一致时,权利人并不能够在其中进行选择,问题是,法院是否有权在查明存在不一致的情形时,直接经行认定布图设计专有权无效?从目前法律的规定看,由于职能分离,法院还不能够这样做。而令人尴尬的是,目前的法律制度中规定的撤销是职能部门依据职权启动的行政行为,他人无法以复制件、图样、样品记载的布图设计不一致为由,通过向专利复审委员会提出申请来撤销其专有权,从而也就无法挑战原告的专有权之效力。

值得注意的是,虽然根据《条例》和《实施细则》集成电路布图设计专有权撤销的撤销是专利复审委员会依职权启动的,但是,最高人民法院在《通知》第4条规定“人民法院受理的侵犯布图设计专有权纠纷案件,被告以原告的布图设计专有权不具有足够的稳定性为由要求中止诉讼的,人民法院一般不中止诉讼”。这虽是目前布图设计侵权案件审理程序中针对中止诉讼的规定,但从中似乎可以分析出,其所指之“以原告的布图设计专有权不具有足够的稳定性为由要求中止诉讼的”情形应该是被告向专利复审委员会提出了撤销该布图设计专有权的请求。另外,专利复审委员会的实践已向公众打开了提出撤销集成电路布图设计专有权的大门。在(美国)安那络公司诉上海贝岭股份有限公司侵犯集成电路布图设计专有权纠纷案中,贝岭公司在接到美国安那络公司的起诉状及有关证明材料后,先于2004年3月25日以权利人的登记超过了首次商业利用2年,按照集成电路布图设计保护条例第17条的规定,国家知识产权局对该布图设计应不予登记为由,向上海市第一中级人民法院对美国安那络公司提起反诉,要求撤销登记号为BS.03500021.X的ADE7755产品的布图设计专有权。而法院则认为,反诉撤销登记号为BS.03500021.X的ADE7755产品的布图设计专有权的要求不属于人民法院的受理范围。2005年2月5日,上海贝岭股份有限公司向专利复审委员会提出了撤销美国安那络公司的上述布图设计专有权。2006年6月,专利复审委员会向美国安那络公司(权利人)及上海贝岭股份有限公司(提意见人)发出了“集成电路布图设计专有权进入撤销程序通知书”,启动了对登记号为BS.03500021.X的ADE7755产品的布图设计专有权的撤销审查。2006年9月12日,美国安那络公司与上海贝岭股份有限公司达成和解,2006年9月20日上海市第一中级人民法院调解结案。 可见,无论是最高法院的态度还是专利复审委员会的实践,都表明当复制件、图样、样品记载的布图设计不一致时,可通过启动撤销程序,以确定专有权的效力。权利人或法院不应在复制件、图样或样品中选择某种载体来确定集成电路布图设计专有权。

2、形式审查下授权之布图设计专有权行使时,被告如果挑战布图设计专有权的稳定性(提起撤销请求),法院是否中止审理?

最高人民法院在《通知》第4条规定“人民法院受理的侵犯布图设计专有权纠纷案件,被告以原告的布图设计专有权不具有足够的稳定性为由要求中止诉讼的,人民法院一般不中止诉讼”。根据这一规定,是否可以当然得出以下结论:在布图设计侵权案件中,被告提出撤销申请并请求中止诉讼程序,法院原则上应该不予准许。笔者认为,答案应该是否定的,或者至少不应该如此简单而机械。对于这一原则性规定,如何理解和适用,需要进一步分析。

民事诉讼中的诉讼中止是指在诉讼进行过程中,因发生某种法定中止诉讼的原因,诉讼无法继续进行或不宜进行,因而法院裁定暂时停止诉讼程序的制度,中止诉讼的原因一旦消除即恢复诉讼。而被告认为“原告的布图设计专有权不具有足够的稳定性”只是被告在诉讼中的主张或观点,显然不能直接作为申请法院中止案件诉讼的理由。只有当被告提供足够证据和理由,认为原告的布图设计专有权缺乏稳定性、不符合授权条件,向专利复审委员会申请撤销布图设计并启动撤销程序时,被告才能将“已经申请撤销专有权”的事实作为申请理由,向法院申请中止诉讼。因此,对于《通知》第4条规定的内容,有进一步完善的必要,当然,也可通过最高法院的进一步解释和说明的方式,对集成电路布图设计侵权纠纷案件审理中的中止制度加以完善,使其更为科学合理。

《条例》第18条和《实施细则》第17、19、20条规定了国家知识产权局对布图设计进行初步审查的制度以及审查的内容和范围。根据上述规定,国家知识产权局在对受理的布图设计登记申请进行初步审查的过程中,只需对申请人申请登记的对象或客体是否属于集成电路的布图设计以及是否是延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等进行审查。经审查,除非申请人申请登记的对象或客体明显不属于集成电路的布图设计,或者明显延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等,国家知识产权局应授予该布图设计专有权,进行登记和公告。

由于审查的内容不包括申请的主体条件、时间条件和受保护的独创性条件;审查只要达到“无明显不符合”的标准即可。因此,难以保证获得授权的布图设计全部符合授权条件。当被告认为原告的布图设计不符合授权条件,可以根据《实施细则》第29条规定向专利复审委员会申请撤销布图设计。而布图设计撤销程序的审理结果必将直接影响侵权案件的处理结果。因此,笔者认为,基于目前布图设计授权登记的审查形式,在侵权案件中,为了保护被告的合法权利和维护生效判决的效力,当被告在案件审理过程中提起撤销布图设计登记的,并提供了相应证据和理由,足以动摇权利稳定性的,法院应当中止审理。

当然,为了平衡双方之间的利益,防止某些被告故意拖延诉讼,可以规定不予中止的例外情形。这方面可以借鉴最高法院关于实用新型和外观设计专利侵权案件中适用中止的相关规定,对被告在答辩期间内提出撤销申请的,原则上应当中止诉讼,但在原告出具的鉴定报告中显示原告的布图设计包含有非常规设计,或者被告能够证明其使用的布图设计为公知设计,或者被告证明原告布图设计专有权无效的证据明显不足等情况下,受理法院可以不中止诉讼;被告在答辩期间届满后提出无效请求的,不中止诉讼,但受理法院经审查认为有必要中止的,可以中止诉讼。

3、原告(权利人)是否应负有证明其登记之布图设计权利稳定性的义务,以及独创性之释明义务?

由于法律规定获得登记之集成电路布图设计具有专有权利,一般而言,可以认为,原告只要提供了登记证书及相关文件,就完成了举证责任,证明其拥有专有权。然而,考虑到这种权利的获得并未经过实质审查,其法律稳定性并不是很强,因此,原告的举证责任中是否应该包含权利稳定性方面的义务,值得探讨。

一般认为,当原告提供登记和“三维配置”方面的证据就完成了举证责任,如果被告认为原告的权利不稳定,应由被告提供证据,挑战原告的独创性等。如果这样的话,对被告而言既不合理,也非常困难。首先,权利人控告他人侵权的前提是其享有权利,其当然负有举证之责任,虽然已有登记,但这种登记仅仅是形式上的审查,并未涉及授权的实质条件——独创性,依现行之做法,无异于将原告证明自己拥有权利的义务转移给了被告,这是不合理的;其次,要求被告证明原告的集成电路布图设计不具有独创性,将是十分困难的,倒不如要求由原告指出其设计中那些具有独创性,即明确区分独创性与非独创性的具体内容和范围,过滤掉常规设计,相当于明示其权利所在,这对于原告而言并不困难(类似于商业秘密诉讼中权利人需指明其秘密点)。审理集成电路布图设计侵权诉讼应当与其他知识产权诉讼案件一样,始终贯彻“由权利人陈述其所请求保护的权利内容”这一基本原则, 而这样做既方便了被告进行有针对性的抗辩,也便于法院进行权利稳定性和是否侵权的判断。

在南京中院审理的布图设计侵权案件中, 原告诉前委托上海市科技咨询服务中心,就其生产的PT4115芯片是否含有不为公众所知的技术信息以及其他问题进行鉴定,该服务中心出具报告结论之一是原告“生产的PT4115芯片含有高压模块隔离环的设计等6项不为公众所知悉的技术信”,并被法院采信——法院认为原告涉案PT4115芯片具有独创性。  笔者认为,实际上,原告是在向法院明示其布图设计独创性及其所在。

4、独创性的标准和判断

(1)《条例》关于布图设计独创性的法律规定

《条例》第4条规定,“受保护的布图设计应当具有独创性,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计,其组合作为整体应当符合前款规定的条件。”该条即是对集成电路布图设计保护要件的规定,布图设计应当具有独创性或者由常规设计组成的布图设计,其组合作为整体应当具有独创性。布图设计的保护条件使用了与著作权法中的作品受保护条件相同的术语——“独创性”。

但是,布图设计的独创性与作品的独创新相比,其内容与涵义有所不同。对著作权而言,独创性应该是指作者独立构思,不抄袭、剽窃他人作品。  因此,作品只要能确定系作者自己的创作成果而非抄袭、复制,则该作品就具备独创性的条件。但对于集成电路布图设计而言,其毕竟带有技术性,必须遵守工程设计原理、方法、规范,甚至采用设计常规。  根据《条例》第4条的规定,布图设计除了为“创作者自己的成果”外,还需“不是公认的常规设计”。这实际上是对创造高度的要求,但这里的创造高度比起专利法中的创造性所要求的高度要低得多。因此对于布图设计独创性的要求可以概括为:布图设计的独创性等于“自己创作”加“非常规设计”。

(2)独创性的体现

虽然布图设计表现为图形,但前面已讨论过,布图设计带有技术性,与著作权领域的图形作品不同。因此,布图设计的独创性与著作权领域的图形作品是有区别的,那么布图设计的独创性究竟体现在那些方面?

已有研究对集成电路布图设计独创性的具体体现进行了总结并指出: 属于概念层次的结构、技术、功能,由于不属于布图设计保护的对象,尚不能体现独创性,在这个概念层次之下的要素,如元件的功能性、选择性、布局性、互连性、组合性、技术参数等要素在不同程度上逐步体现了布图设计的原创性。体现布图设计独创性的要素包括结布图设计中元件的空间布局、元件的连接关系、连接线路排布与走向、元件及线路的尺寸规格等,而不包括布图设计的设计思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。

在布图设计侵权案件中,可以将被控侵权人实施的布图设计与权利人的布图设计中体现布图设计独创性的上述要素进行对比,以得出被控侵权的布图设计是否具有独创性而形成新的布图设计,并进而得出被控侵权布图设计与权利人的布图设计是否构成实质性相似的结论。

(3)独创性的判断和侵权认定:美国司法实践的借鉴

美国发生过两起著名的布图设计侵权案例,Brooktree Corporation   V.Advanced Micro Devices,Inc.案 和Altera Corporation v. Clear Logic Incorporated案 。这两起案件不但对各国司法实践中如何界定复制侵权和反向工程具有重要的指导意义,而且对如何判断布图设计的独创性以及认定侵权都具有重要的指导意义。

在Brooktree案中,原告Brooktree公司称,其于1987年和1988年分别获得两项掩膜作品 的专有权,含有这两项掩膜作品的芯片具有“调色板”的作用,能够以较高的速度和质量在彩色显示器上生成色彩。Brooktree公司认为,这些芯片在技术上有极大的突破,在速度和操作方面取得了此前难以想象的技术效果,其中一个芯片可以替代AMD公司的36个类似芯片,并具有许多其他优越性能。同时,这两个芯片在商业上取得了很大的成功。这些芯片中有一个核心单元,带有十个晶体管的静态存储器。一个芯片中含有6000多个这样的核心单元,占整个芯片区域的80%。每一个核心单元由通过金属导线连接的十个晶体管组成三维多层的结构。Brooktree公司指控AMD公司复制了这一核心单元,构成侵权。AMD公司则认为,其只复制了上述80%的掩膜作品,没有全部复制,并且其掩膜作品是在反向工程的基础上得出,因此不构成侵权。

在该案审理中,联邦巡回上诉法院认可联邦地方法院提供给陪审团的构成侵权判断标准的指示,侵权作品应与登记的掩膜作品的重要部分实质性相似,要证明侵权成立,Brooktree公司应该证明AMD公司的掩模作品与Brooktree公司生产的芯片中所包含的经过登记的掩膜作品的重要部分实质性相似。同时,联邦巡回上诉法院引用了众议院报告指出,掩膜作品有时含有的重要部分即核心单元,具有创造性和商业价值。如果这些核心单元符合独创性条件,那么盗用这些核心单元可以构成侵权。

联邦巡回上诉法院认为,案件中大量的证据显示,通过对包括布图设计中晶体管的位置、晶体管之间的金属连线和及其连接方式、组合方式等的相似性对比,Brooktree公司的掩膜作品具有唯一性和独创性,AMD公司的掩膜作品与Brooktree公司的掩膜作品构成实质性相似。虽然两者之间存在不同之处,但法院认可原告证人的主张,即在两个掩膜作品中,相同之处的重要性要大于不同之处的重要性。据此,联邦巡回上诉法院支持了联邦地方法院的判决,认定侵权成立。

在Alters案件 中,Alters公司认为Clear Logic公司复制了其芯片中晶体管集群组件的位置布置。Clear Logic公司则认为,芯片中晶体管集群组件的位置布置只是一种方法或概念,不受《芯片保护法》的保护,同时也以反向工程进行抗辩。联邦第九巡回上诉法院不认可Clear Logic公司的这一看法,认为晶体管集群组件的位置布置已不属于概念层次,正如证人所述,这些晶体管集群组件已被刻蚀在光刻掩膜中。联邦第九巡回上诉法院进一步论述到,在芯片的制作过程中,随着每一制作步骤的进行,掩膜作品的设计概念在芯片制作过程中逐步得到具体体现,并被最终表达在掩膜作品中。芯片中晶体管集群组件的位置布置是光刻掩膜的组成部分。最后联邦第九巡回上诉法院认为,掩膜作品中电子组件的选择、组合、安排,包括电子组件的位置安排、方位、晶体管组件之间的相互关系和连线等都受《芯片保护法》的保护。第九巡回上诉法院认同地方法院法官给陪审团的指示,即要求陪审团在进行相似性对比时,既要考虑晶体管的布置,还要考虑芯片中晶体管组合成组件的方式、组件之间的连接线。第九巡回上诉法院认为,通过这样的比对方法,陪审团就可以基于案件的事实判断Alters公司芯片中各元素的表达是否具有独创性,以及与Clear Logic芯片中相同元素相比是否构成实质性相似。

在上述两个美国案例中,法院为了判断被控侵权的掩膜作品是具有原创性的新作品还是侵权作品,对受保护的掩膜作品中体现独创性的要素,比如电子组件的选择、组合、安排,包括电子组件的位置安排、方位、晶体管组件之间的相互关系和连线等要素的相似性进行分析,并根据这些要素的相似性的程度以及相似性要素在掩膜作品中的重要程度,来判断被控侵权的掩膜作品是新的具有独创性的掩膜作品还是侵权作品。

我国目前发生的司法案件中,仅在南京中院审理的布图设计侵权案件中,涉及到布图设计独创性的问题,但是独创性问题并非该案的重点,在该案中被一笔带过。该案中,认定布图设计具有独创性的依据是“生产的PT4115芯片含有高压模块隔离环的设计等6项不为公众所知悉的技术信息”, 但对于这六项不为公众所知悉的技术信息到底是哪些信息并未具体说明。这六项技术信息是不是属于集成电路布图设计的保护范围?是否能够体现布图设计的独创性?是否可以作为判断布图设计独创性的依据?即使可以作为判断独创性的依据,布图设计中包含的不为公众所知悉的技术信息的数量和技术程度要达到什么标准才能确定布图设计的独创性?该案中都未涉及。对于这些问题的解决,可以参考上述美国司法实践的经验。通过抽象、过滤,再对体现布图设计独创性的要素,比如元件的空间布局、元件的连接关系、连接线路排布与走向、元件及线路的尺寸规格等,进行相似性的对比,当这些要素中在布图设计中具有重要的地位和作用,即使与整体相比,具有相似性的要素比例比较少,只要具有重要地位和作用的部分——核心设计实质性相似或相同,也可认定侵犯了布图设计专有权。

三、余论:待解的问题

在集成电路布图设计专有权侵权纠纷中,尚有其他许多问题有待探讨。例如独创性的具体标准和判断方法?法院在集成电路布图设计侵权案件中的审查义务有哪些?如何在职能分离的法律结构下,提高审判效率?特别是撤销程序如何参考借鉴专利法和商标法加以完善?鉴定的对象、标准和质证、认证?可否与被控侵权者提供的图样、复制件进行比对?反向工程的认定标准?与专利保护、商业秘密保护的协调和关系如何处理?赔偿额的确定等等,因本文的限制,这些问题没有一一展开,期待更多研究者关注和探讨这些问题。

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